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Please use this identifier to cite or link to this item: http://ir.ncue.edu.tw/ir/handle/987654321/12298

Title: 射頻磁控濺鍍透明導電膜AZO/AgPd/AZO複層薄膜特性之研究
Authors: 盧坤新;洪琮瑞;郭晉全;林義成
Contributors: 機電工程系
Keywords: 射頻磁控濺鍍;透明導電膜;AZO/AgPd/AZO複層薄膜
Date: 2004-12
Issue Date: 2012-07-05T07:12:13Z
Publisher: 國立中央大學光電科學研究所
Abstract: 本研究採用射頻磁控濺鍍法(RF magnetron sputtering)進行薄膜沉積,將5~8nm的銀鈀薄膜夾層於介電層AZO(ZnO:Al)沉積於康寧玻璃1737F,藉由調變射頻功率(AgPd)與沉積壓力(AZO、AgPd),分析銀鈀夾層對於薄膜的微結構,電性與光性的影響,實驗結果顯示:AgPd沉積功率從50W至350W,電性與光性最佳值在150W。當AZO/AgPd/AZO複層薄膜之外層AZO薄膜較薄時(60nm),中間層AgPd薄膜結晶化程度會主導複層薄膜之電性及光性,AgPd結晶較佳,則有較佳電性及光性。
Relation: 2004台灣光電科技研討會, 國立中央大學, 2004年12月18-19日
Appears in Collections:[機電工程學系] 會議論文

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