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http://ir.ncue.edu.tw/ir/handle/987654321/12298
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| 題名: | 射頻磁控濺鍍透明導電膜AZO/AgPd/AZO複層薄膜特性之研究 |
| 作者: | 盧坤新;洪琮瑞;郭晉全;林義成 |
| 貢獻者: | 機電工程系 |
| 關鍵詞: | 射頻磁控濺鍍;透明導電膜;AZO/AgPd/AZO複層薄膜 |
| 日期: | 2004-12
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| 上傳時間: | 2012-07-05T07:12:13Z
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| 出版者: | 國立中央大學光電科學研究所 |
| 摘要: | 本研究採用射頻磁控濺鍍法（RF magnetron sputtering）進行薄膜沉積，將5~8nm的銀鈀薄膜夾層於介電層AZO（ZnO:Al）沉積於康寧玻璃1737F，藉由調變射頻功率（AgPd）與沉積壓力（AZO、AgPd），分析銀鈀夾層對於薄膜的微結構，電性與光性的影響，實驗結果顯示：AgPd沉積功率從50W至350W，電性與光性最佳值在150W。當AZO/AgPd/AZO複層薄膜之外層AZO薄膜較薄時（60nm），中間層AgPd薄膜結晶化程度會主導複層薄膜之電性及光性，AgPd結晶較佳，則有較佳電性及光性。 |
| 關聯: | 2004台灣光電科技研討會, 國立中央大學, 2004年12月18-19日 |
| 顯示於類別: | [機電工程學系] 會議論文
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