English
|
正體中文
|
简体中文
|
全文筆數/總筆數 : 6507/11669
造訪人次 : 29928177 線上人數 : 489
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by
NTU Library IR team.
搜尋範圍
全部NCUEIR
理學院
光電科技研究所
--期刊論文
進階搜尋
登入
‧
上傳
‧
說明
‧
關於NCUEIR
‧
管理
National Changhua University of Education Institutional Repository
>
理學院
>
光電科技研究所
>
期刊論文
>
Item 987654321/17443
資料載入中.....
請使用永久網址來引用或連結此文件:
http://ir.ncue.edu.tw/ir/handle/987654321/17443
題名:
Comment on “Depletion width Measurement in an Organic Schottky Contact using a Metal-semiconductor Field-effect Transistor” [ Appl. Phys. Lett. 91, 083513 (2007) ]
作者:
Lin, Yow-Jon
貢獻者:
光電科技研究所
關鍵詞:
Localised states
;
Organic field effect transistors
;
Organic semiconductors
;
Schottky barriers
;
Semiconductor-metal boundaries
日期:
2010-08
上傳時間:
2013-10-02T08:37:20Z
出版者:
American Institute of Physics
關聯:
Applied Physics Letters, 97(9): 096101
顯示於類別:
[光電科技研究所] 期刊論文
文件中的檔案:
檔案
大小
格式
瀏覽次數
index.html
0Kb
HTML
592
檢視/開啟
在NCUEIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.
DSpace Software
Copyright © 2002-2004
MIT
&
Hewlett-Packard
/
Enhanced by
NTU Library IR team
Copyright ©
-
回饋