National Changhua University of Education Institutional Repository : Item 987654321/18619
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題名: Dosage Dependent Positive/Negative-Working Electron Beam resist of Poly(methyl methacrylate) Containing Bis(perfluorophenyl) Azides
作者: Wu, Jong-Ching;Yan, M.;Wybourne, M. N.;Keana, J. F. W.
貢獻者: 物理學系
日期: 1994
上傳時間: 2014-07-01T08:03:33Z
關聯: Bulletin of the American Physical Society, 39: 706
顯示於類別:[物理學系] 會議論文

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