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Item 987654321/13993
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http://ir.ncue.edu.tw/ir/handle/987654321/13993
題名:
Effect of Electrode Doping Concentration on Electrical Characteristics of Double-barrier Resonant Tunneling Structures
作者:
Wu, Jenq-Shinn
;
Lee, C. P.
;
Chang, C. Y.
;
Chang, K. H.
;
Liu, D. G.
;
Liou, D. C.
貢獻者:
電子工程學系
日期:
1990
上傳時間:
2012-09-10T02:35:49Z
關聯:
International Electron Devices and Material Symposium, : 464
顯示於類別:
[電子工程學系] 會議論文
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